场发射扫描电子显微镜
英文名：Field emission scanning electron microscope
仪器编号：暂缺
生产厂家：日本Hitachi公司
仪器型号：SU8010
单价(元): 2830770
购置时间: 2016.10
存放地点： 独墅湖校区 701-1219
联系人： 卞国庆 曹向前 Tel：67060362
主要技术指标：
场发射扫描电镜：
电子光学系统: 1.1分辨率： 二次电子像：1.0 nm / 15kV， 1.4 nm / 1kV ； 1.2放大倍率：20-800,000倍； 1.3 加速电压：加速电压：0.5kV ～ 30 Kv，着陆电压：最低0.1kV；1.4 具有超低电压能力设计或者减速功能； 1.5 电子枪：场发射电子枪； 1.6 工作距离:1.5～30mm, 能谱仪分析工作距离可近到15mm以下
样品室及样品台: 2.1 样品交换仓：4英寸样品交换仓，最大放样直径：≥100mm；； 2.2 五轴全自动马达样品台：样品台移动最大范围指标：50mm（X方向），50mm（Y方向），1.5-30mm（Z方向），-5～+70°（倾斜），360°（旋转）；2.4双轴摇杆操作系统,带旋钮操作控制面板；
二次电子探测器：配置高位、低位二次电子探测器，高位探测器可选择接受二次电子像和背散射电子像，可以任意比例混合，在低压下（小于2kV）可成背散射电子像。
美国EDAX，TEAM Octane Super能谱仪：
探测器：硅漂移SDD电子冷探头，FET高速硅漂移晶体，有效面积60mm2；
能量分辨率（Mn-Ka）：优于129eV
元素分析范围：Be4～U92
谱峰稳定性： 在l000 cps到100,000 cps之间，谱峰漂移小于leV， 分辨率变化小于leV，48小时内峰位漂移小于1.5eV;
定性分析：可自动标识谱峰，除惰性分析元素外，无禁止自动标定的元素；能进行谱重构，对重叠峰进行手动峰剥离
精密切割机：
型号：德国徕卡 TXP；
用途：可对样品进行精确目标定位，并对样品进行跣削、修块、切割、研磨、抛光等加工；实时显微观察。
观察系统：放大倍率 9.6×～77×；环形LED照明，四分割，可选不同的照明角度和亮度；样品观察角度为0～90゜；样品臂倾斜角度为0～60゜；
机械控制：工作轴转速300～20000rpm可调；步径100μm、10μm、1μm及0.5μm可选；具有自动磨抛功能；
离子溅射仪：
厂家：英国 COWAQ； 型号：S150RTL-1；
靶材：Au或Pt
性能：颗粒小于5nm
主要功能用途：
场发射扫描电子显微镜（FESEM）具有超高分辨率，能做各种固态样品表面形貌的二次电子像、反射电子像观察及图像处理。
具有高性能X射线能谱仪，能同时进行样品表层的微区点线面元素的定性、半定量及定量分析，具有形貌、化学组分综合分析能力。
应用范围：
纳米材料、薄膜材料、无机催化、高分子材料、半导体、陶瓷、生物等各类材料以及电子线路板的形态、相及晶体的观察和分析。
